[18p-F2-1~13] 7.3 リソグラフィ

[18p-F2-2] 脱保護反応に起因した膜減り量評価による化学増幅系EUV用レジストの反応解析

^○（M1）江村和也¹，渡邉健夫¹，山口太都¹，谷野寛仁¹，福井翼¹，塩野大寿²，春山雄一¹，村松康司¹，大森克実²，佐藤和史²，原田哲男¹，木下博雄¹ (兵庫県立大¹，東京応化工業²)

キーワード：EUV,レジスト