[18p-F2-1~13] 7.3 リソグラフィ

[18p-F2-4] 加熱触媒体により生成した原子状水素ラジカルによるイオン注入レジストの除去機構

若月隆一¹，能登雄介¹，^○西山聖¹，佐藤絵理子²，堀邊英夫² (金沢工大¹，阪市大院工²)

キーワード：水素ラジカル,レジスト除去