2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.1 基礎物性・表面界面現象・シミュレーション

[19p-D9-1~18] 13.1 基礎物性・表面界面現象・シミュレーション

2014年3月19日(水) 14:00 〜 19:00 D9 (D315)

15:15 〜 15:30

[19p-D9-6] 超解像ラマン分光法による微細加工歪SiGe層に生じる応力緩和の高空間分解能2次元分布評価

富田基裕1,2,小瀬村大亮1,臼田宏治3,小椋厚志1 (明大理工1,学振特別研究員DC2,産総研GNC3)

キーワード:歪Si,ラマン分光法,超解像