[19p-E14-1~21] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19p-E14-11] ミニマル集光加熱炉によるシリコン熱酸化プロセス

^○三浦典子^1,2，相澤洸^1,2，三ヶ原孝則²，山田武史^1,2，大西康弘^1,2，石田夕起^2,3，池田伸一^2,3，中戸克彦²，ソマワンクンプアン^2,3，原史朗^2,3 (米倉製作所¹，ミニマルファブ²，産総研³)

キーワード：minimal fab,加熱炉,熱酸化膜