[19p-PA2-1~9] 1.3 新技術・複合新領域

[19p-PA2-9] ポジ形電子線レジストgL2000の化合物半導体エッチング用Cl₂プラズマ耐性

^○松谷晃宏¹，渡邊雅彦²，小俣有紀子² (東工大半導体MEMSプロセス技術センター¹，エリオニクス²)

キーワード：レジスト,プラズマ,エッチング