2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[20a-D8-1~11] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

2014年3月20日(木) 09:00 〜 12:00 D8 (D215)

09:00 〜 09:15

[20a-D8-1] NO2曝露・水素終端ダイヤモンド/Al2O3ヘテロ界面のバンド不連続の放射光XPS/UPS/XANES測定

嘉数誠1,高橋和敏2,今村真幸2,平間一行3 (佐賀大院工1,佐賀大シンクロトロン光応用研セ2,NTT物性基礎研3)

キーワード:ダイヤモンド,ヘテロ接合