[20p-E2-1~6] 17.1 成長技術

▼ [20p-E2-2] Conductive DLC Film Deposition by Low Temperature Neutral Beam Enhanced Chemical Vapor Deposition

^○昌錫江¹，菊地良幸^1,2，中野雅識³，井上久美^3,4，末永智一^3,4,5，野沢俊久²，寒川誠二^1,5 (東北大流体研¹，東京エレクトロン²，東北大環境³，東北大 マイクロシステム融合研究開発センター⁴，東北大WPI⁵)

キーワード：プラズマCVD,バイオLSI,導電性カーボン膜