The 76th JSAP Autumn Meeting, 2015

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15 Crystal Engineering » 15.3 III-V-group epitaxial crystals

[13p-PB2-1~15] 15.3 III-V-group epitaxial crystals

Sun. Sep 13, 2015 1:30 PM - 3:30 PM PB2 (Shirotori Hall)

1:30 PM - 3:30 PM

[13p-PB2-6] GaAsN System p+ -n+ Tunnel Diodes

〇Ryuki Taniguchi1, Akimi Yamane1, Satoshi Akiyama1, Makoto Kuramoto1, Miki Fujita2, Toshiki Makimoto1 (1.Waseda Univ., 2.NIT, Ichinoseki College)

Keywords:GaAsN,GaNAs,tunnel diode

多接合型太陽電池では、異なる太陽電池を直列に接合するために、トンネルダイオードが必要となる。理論的には、材料のバンドギャップエネルギー(Eg)が減少すると、指数関数的にキャリアのトンネル確率が大きくなる。ここで、N組成が低いGaAsN半導体は、N組成とともにEgが減少することが知られており[1]、GaAsよりも小さなEgを持つ。このため、Egの小さなGaAsNを用いたトンネルダイオードでは、その抵抗が大幅に減少することが期待できる。