The 76th JSAP Autumn Meeting, 2015

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[16a-1D-1~12] 15.4 III-V-group nitride crystals

Wed. Sep 16, 2015 8:45 AM - 12:00 PM 1D (141+142)

座長:小島 一信(東北大),石谷 善博(千葉大)

11:00 AM - 11:15 AM

[16a-1D-9] Optical property of InGaN/GaN single quantum disk nano-pillars fabricated by hydrogen environment anisotropic thermal etching (HEATE)

〇(M1)Tomoya Mizutani1, Ryo Hachiya1, Kohei Ogawa1, Shun Ishijima1, Akihiko Kikuchi1,2 (1.Sophia Univ., 2.Sophia Univ. Nano-Tech Research Ctr.)

Keywords:GaN,etching,nano structure

我々は、低圧水素雰囲気中での窒化物半導体の熱分解反応を利用した新しいナノ加工技術である水素雰囲気異方性熱エッチング(HEATE)法について報告してきた。本研究では、HEATE法で作製したInGaN単一量子ディスクを内在するナノピラーアレイを作製した。PL温度特性測定及び時間分解PL測定により、HEATE法がInGaN/GaN量子井戸構造を内在するナノ構造作製に適した低損傷なエッチング法であることを検証した。