2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[16a-2H-1~13] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2015年9月16日(水) 09:00 〜 12:15 2H (222)

座長:関 宗俊(東大)

09:30 〜 09:45

[16a-2H-3] MBE 成長したWO3 薄膜のエレクトロクロミック特性

〇松尾 昌幸1、村山 喬之1、原田 義之1、小池 一歩1、佐々 誠彦1、矢野 満明1、稲葉 克彦2、小林 信太郎2 (1.大阪工業大学 ナノ材料マイクロデバイス研究センター、2.株式会社リガクX線研究所)

キーワード:三酸化タングステン、エレクトロクロミック