[16p-4E-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

△ [16p-4E-8] ポリマー表面への単原子ステップナノインプリント転写に与える加熱・加圧条件およびモールドの原子ステップ形状の影響

〇譚 ゴオン¹、嶋田 航大¹、野沢 靖久¹、小山 浩司²、金子 智^3,1、松田 晃史¹、吉本 護¹ (1.東工大総理工、2.並木精密宝石、3.神奈川県産技センター)

キーワード：熱ナノインプリント、原子スケールパターンニング、ポリマー表面のパターンニング

熱ナノインプリント法による形状転写は、原子スケールでの微細化の可能性を秘めおり、高解像度化に関わる研究が盛んである。我々はこれまでに、PMMA基板上に約800 nm間隔で、段差が約0.3 nmの周期的なステップパターンの転写を報告した。本研究では、モールドのステップ間隔および加熱、加圧条件やプロセスシーケンスと、ナノインプリント後におけるポリマー表面の平坦性や原子ステップ形状再現性との相関について検討を行った。