[12p-P10-1~8] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[12p-P10-2] ターゲット有効利用のための様々な形状の磁化プラズマ生成と評価

〇大津 康徳¹、鶴田 昇平¹、井手 翼¹、田原 竜夫²、秋山 守人² (1.佐大院工, 2.産総研九州センター)

キーワード：スパッタ源、ターゲット有効利用、透明導電膜、銅薄膜