14:30 〜 14:45 △ [15p-C302-3] SiO2をマスクとしたSF6-O2-Ar系ICP-RIEによる高選択比SiCエッチング 〇平松 佳奈1、奥田 貴史1、須田 淳1、木本 恒暢1 (1.京大院工)