2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[20a-S423-1~9] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年3月20日(日) 09:00 〜 12:15 S423 (南4号館)

佐々木 実(豊田工大)

11:30 〜 11:45

[20a-S423-7] マイクロ流路を用いた微細素子のアレイ化

〇(M1)岡田 義之1、川合 健太郎1、有馬 健太1、森田 瑞穂1 (1.阪大院工)

キーワード:マイクロ流路

フレキシブルディスプレイ実現のため、薄膜トランジスタ(TFT)を単結晶シリコン基板で作製し、ディスクリート化してフレキシブル基板上に整列する手法が提案されている。我々はマイクロ流路を用いて、35μmの立方体微細素子を125μm間隔で角度を揃えてアレイ化することに成功した。今後素子の上下を制御することでTFTの配列に応用できると考えている。