[20p-H137-1~15] 7.5 イオンビーム一般

[20p-H137-1] 高出力インパルスマグネトロンスパッタリング法を用いた高強度・サイズ選別ナノクラスターイオン源の開発

〇角山 寛規^1,2、張 初航²、山本 宏晃³、戸名 正英³、塚本 恵三³、中嶋 敦^1,2,4 (1.慶大理工、2.JST-ERATO、3.(株) アヤボ、4.慶應KiPAS)

キーワード：ナノクラスター、マグネトロンスパッタリング

数個から数百個の原子からなるナノクラスター (NC) は、サイズ (構成原子数) に応じて特異的に性質が変化することから、機能性ナノ物質への応用が期待される物質群である。当グループでは、強度およびサイズ選択性の観点でマグネトロンスパッタリング (MSP) 法を高度化した、高出力インパルスマグネトロンスパッタリング (HiPIMS) 法に基づく高強度・サイズ選別NCイオン源 (Nanojima) を開発した。作製したNCイオン源は、(1) パルス放電条件 (ピーク電力, 繰返し周期) によってサイズ分布の制御が容易である、(2) 直流MSP法に比べてイオン強度が増大するという特徴を有している。