2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[22p-H103-1~8] 6.4 薄膜新材料

2016年3月22日(火) 13:00 〜 15:00 H103 (本館)

篠田 健太郎(産総研)

13:45 〜 14:00

[22p-H103-4] アブレーション化学種と雰囲気ガスの反応が
ハイドロキシアパタイト薄膜の表面形態とCa/P 比に及ぼす影響

長谷川 司1、橋本 典也2、西川 博昭3 (1.近大院生物理工、2.大阪歯科大、3.近大生物理工)

キーワード:Ca/P比、HA薄膜表面形態、雰囲気ガス