2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[5p-C17-1~17] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2017年9月5日(火) 13:45 〜 18:15 C17 (研修室2)

加藤 正史(名工大)、佐藤 威友(北大)

16:15 〜 16:30

[5p-C17-10] ALD-Al2O3/GaN 構造における伝導帯端近傍の界面特性と熱処理温度の関係

田岡 紀之1、小林 貴之2、中村 昌幸2、佐川 達郎2、グェンスァン チュン1,3、大田 晃生3、山田 永1、高橋 言緒1、池田 弥央3、牧原 克典3、久保 俊晴4、山田 寿一1、江川 孝志4、宮﨑 誠一3、本山 愼一2、清水 三聡1 (1.産総研 GaN-OIL、2.サムコ(株)、3.名大院工、4.名工大)

キーワード:GaN、界面準位