2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[5p-S42-1~15] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2017年9月5日(火) 13:15 〜 17:45 S42 (第2会議室)

山口 徹(NTT)、山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)

16:15 〜 16:30

[5p-S42-11] ナノインプリントリソグラフィにおける歪みの検討

渡辺 謙太1、飯田 達矢1、川田 博昭1、安田 雅昭1、平井 義彦1 (1.大阪府立大 院 工)

キーワード:ナノインプリントリソグラフィ