[7a-A402-1~10] 8.4 プラズマエッチング

[7a-A402-6] 高選択Si₃N₄エッチングガスC₄H₉Fのエッチング特性および解離挙動

〇伊東 安曇¹、乾 裕俊¹、松本 裕一¹ (1.日本ゼオン)

キーワード：エッチングガス

高選択Si₃N₄エッチングとして開発したC₄H₉Fについて、CH₃F、CH₂F₂とのエッチング特性の比較結果、および四重極質量分析装置を用いたプラズマ中のイオン・ラジカルの解離挙動の解析結果の報告を行う。