[15a-304-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[15a-304-2] 集束イオンビームを用いたステンシルリソグラフィ技術のためのSub10nmパターンの作製

〇朴 理博¹、永瀬 雅夫¹、大野 恭秀¹ (1.徳島大院)

キーワード：集束イオンビーム、サブ10nm、ステンシルリソグラフィ