[15a-304-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[15a-304-3] FIB/EB複合リソグラフィーによるNEB-22レジストからのカーボンナノメカニカル構造の作製

〇湯浅 勇貴¹、前田 悦男¹、米谷 玲皇¹ (1.東京大工)

キーワード：NEMS、リソグラフィー

NEMS振動子センサなどへの応用が期待されるカーボンナノメカニカル構造体の簡易な作製プロセスを創出することを目的として，本研究では集束イオンビーム/電子ビーム複合リソグラフィーによるNEB-22レジストからのカーボンメカニカル構造体作製を試み，その加工特性を評価した．評価の結果，露光ドーズの増加に伴う薄膜の厚さは増加，およそ70 nm厚の薄膜構造の形成が可能であることが確認された．