[16a-P4-1~29] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

△ [16a-P4-8] 表面波プラズマ励起化学気相堆積法によるシリコン酸化膜の堆積と評価

〇馬場 真人¹、近藤 佑隆¹、岡田 浩^2,1、古川 雅一³、山根 啓輔¹、関口 寛人¹、若原 昭浩^1,2 (1.豊技大工、2.EIIRIS、3.ARLC)

キーワード：表面波プラズマ、化学気相堆積法、シリコン酸化膜