11:00 〜 11:15 [21a-145-8] 硬X線光電子分光法(HAXPES)による強誘電体HfSiO MIM構造積層膜の化学結合状態解析 〇臼田 宏治1、上牟田 雄一1、株柳 翔一1、吉木 昌彦2、富田 充裕1、齋藤 真澄1 (1.東芝メモリ新規メモリ開発部、2.東芝研開センター)