11:15 〜 11:30 [20a-233-8] スパッタリング法によって作製したアモルファスSi-Ge薄膜の結晶化 〇(D)奥川 将行1、仲村 龍介1、沼倉 宏1、石丸 学2、保田 英洋3 (1.阪府大工、2.九工大工、3.阪大工)