14:45 〜 15:00 △ [20p-438-5] Cl2プラズマによるGaN高温エッチングのH2添加効果 〇(M1)大道 貴裕1、谷出 敦1,2、石川 健治1、堤 隆嘉1、近藤 博基1、関根 誠1、堀 勝1 (1.名大院工、2.(株)SCREENホールディングス)