2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[19p-CE-5~17] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年9月19日(水) 15:00 〜 18:45 CE (センチュリーホール)

加藤 正史(名工大)、佐藤 威友(北大)

16:30 〜 16:45

[19p-CE-10] SiO2/p-GaN MOSキャパシタの電気特性評価

山田 高寛1、寺島 大貴1、野崎 幹人1、山田 永2、高橋 言諸2、清水 三聡2、細井 卓治1、志村 考功1、渡部 平司1 (1.阪大院工、2.産総研)

キーワード:p-GaN、MOS、電気特性