[20p-133-1~14] 16.3 シリコン系太陽電池

△ [20p-133-11] 電子エネルギー損失分光法を用いた
高パッシベーション性能TiO_x/SiO_x/c-Siヘテロ界面の局所構造の解明

〇望月 健矢¹、後藤 和泰¹、黒川 康良¹、山本 剛久¹、宇佐美 徳隆¹ (1.名大院工)

キーワード：パッシベーション、酸化チタン、結晶シリコン

近年、原子層堆積法によって作製された酸化チタン（TiO_x）薄膜は高いパッシベーション効果を示すことから、太陽電池応用に向けて注目されている。また、SiO_xをTiO_x/結晶Si界面に導入するとパッシベーション性能が向上することが知られているが、そのメカニズムは明らかにはなっていない。本実験では走査透過型電子顕微鏡と電子エネルギー損失分光法を駆使することで、高いパッシベーション効果とナノスケールの局所的な構造の関係性に着目した。