[20p-133-1~14] 16.3 シリコン系太陽電池

△ [20p-133-10] 反応性プラズマ蒸着法によるITO/a-Si界面化学結合状態の硬X線光電子分光法による評価

〇西原 達平¹、小島 拓人¹、金井 皓輝¹、松村 英樹²、神岡 武文¹、大下 祥雄³、安野 聡⁴、廣沢 一郎⁴、小椋 厚志¹ (1.明治大理工、2.北陸先端科学技術大学院大学、3.豊田工業大学、4.高輝度光科学研究センター)

キーワード：ヘテロ接合太陽電池、ITO、硬X線光電子分光法

ヘテロ接合太陽電池に用いられるITO膜をスループットの高いreactive plasma deposition(RPD)法で堆積させ、熱処理前後のITO/a-Si界面の化学結合状態の変化を角度分解硬X線光電子分光法で評価した。