2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.4 アナログ応用および関連技術

[20p-212B-1~14] 11.4 アナログ応用および関連技術

2018年9月20日(木) 13:15 〜 17:15 212B (212-2)

三木 茂人(情通機構)、服部 香里(産総研)

13:15 〜 13:30

[20p-212B-1] 高品質Nb薄膜を用いたMKIDの共振特性(II)

野口 卓1,2、Dominjon Agnes1、Kroug Matthias1、Mima Satoru2、Otani Chiko2 (1.NAOJ/NINS、2.RIKEN)

キーワード:超伝導体、マイクロ波共振器、Q値

残留抵抗比RRR = 80、超伝導転移温度9.4Kという特性をもつ高品質Nb薄膜を用いて超伝導共振器を作製し、その共振特性を詳細に調べた。
高品質Nb薄膜共振器の内部Q値と共振周波数の温度依存性は、Mattis-Bardeen理論と近藤効果に加えて、フォノン散乱および準粒子間散乱による準粒子抵抗の準粒子残留抵抗への寄与を考慮shした理論によって、非常によく説明できることがわかった。