2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[21p-146-1~17] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年9月21日(金) 13:30 〜 18:00 146 (レセプションホール)

荒木 努(立命館大)、岡田 成仁(山口大)

16:15 〜 16:30

[21p-146-11] 高温アニール処理DCスパッタAlNを用いたAlNテンプレートの評価

最上 耀介1,2、茂手木 省吾1,2、大澤 篤史3、尾崎 一人3、谷岡 千丈3、前岡 淳史3、定 昌史1、前田 哲利1、矢口 裕之2、平山 秀樹1 (1.理研、2.埼玉大学、3.SCREENファインテックソリューションズ)

キーワード:紫外LED、スパッタ、AlNテンプレート

殺菌、浄水などへの応用が期待される深紫外LEDをよりローコストで生産できる可能性があるとして、スパッタ堆積AlNを高温アニール処理してテンプレートとして用いる方法が注目されている。アニール処理後の表面には大きなヒロックが形成するが、処理温度をコントロールすることによりそれらを低減することに成功した。