一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.15 シリコンフォトニクス
2018年3月18日(日) 09:30 〜 11:45 B201 (53-201)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:30 〜 09:45
〇北 翔太1,2、新家 昭彦1,2、野崎 謙悟1,2、コン グアンウェイ3、山田 浩治3、納富 雅也1,2 (1.NTTナノフォトニクスセンタ、2.NTT物性研、3.産総研)
スケジュール
いいね！
)
09:45 〜 10:00
〇北 翔太1,2、野崎 謙悟1,2、高田 健太1,2、新家 昭彦1,2、納富 雅也1,2 (1.NTTナノフォトニクスセンタ、2.NTT物性研)
スケジュール
いいね！
)
10:00 〜 10:15
〇阿部 紘士1、馬場 俊彦1 (1.横国大・院工)
スケジュール
いいね！
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10:15 〜 10:30
〇竹内 梧朗1、寺田 陽祐1、阿部 紘士1、伊藤 寛之1、馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇鉄矢 諒1、阿部 紘士1、馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
スケジュール
いいね！
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11:00 〜 11:15
〇古門 優弥1、阿部 紘士1、雛倉 陽介1、馬場 俊彦1 (1.横浜国大・院工)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇伊藤 寛之1、建部 知紀1、阿部 紘士1、馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇伊藤 寛之1、馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
スケジュール
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