[18a-C309-1~10] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[18a-C309-5] [優秀論文賞受賞記念講演] Cyclic etching of tin-doped indium oxide using hydrogen-induced modified layer

〇平田 瑛子¹、深沢 正永¹、長畑 和典²、李 虎³、唐橋 一浩⁴、浜口 智志⁴、辰巳 哲也¹ (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ、2.ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング、3.東京エレクトロン、4.大阪大学)

キーワード：優秀論文賞受賞記念講演