2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」 » 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

[18p-E214-1~13] 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

2019年9月18日(水) 13:15 〜 17:00 E214 (E214)

中村 芳明(阪大)、塩見 淳一郎(東大)、馬場 寿夫(JST)

13:15 〜 13:30

[18p-E214-1] ラマン分光法による酸化膜被覆プロセスの異なるSOI薄膜における熱伝導特性評価

竹内 悠希1、横川 凌1,2、富田 基裕3、渡邉 孝信3、小椋 厚志1 (1.明大理工、2.学振特別研究員 DC、3.早大理工)

キーワード:熱電材料、フォノン、シリコン酸化膜