2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[19a-E301-1~9] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2019年9月19日(木) 09:00 〜 12:00 E301 (E301)

加藤 正史(名工大)

10:30 〜 10:45

[19a-E301-4] GaN縦型pnダイオード内部のキャリア寿命・EL分布

〇(M1)安田 優斗1、宇佐美 茂佳2、田中 敦之2、天野 浩2、加藤 正史1,2 (1.名工大、2.名大)

キーワード:半導体、窒化ガリウム、キャリア寿命

縦型pnダイオードにおいて、順方向電圧を印加した際のオン抵抗に影響するキャリアライフタイムは重要なパラメータである。本研究ではGaN基板上にGaNをエピタキシャル成長させた縦型pnダイオードのキャリア寿命分布を測定することで、ダイオード特性に影響を及ぼす因子を検討した。