2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[19a-E305-1~12] 13.3 絶縁膜技術

2019年9月19日(木) 09:00 〜 12:15 E305 (E305)

藤井 章輔(東芝メモリ)、堀田 育志(兵庫県立大)

09:00 〜 09:15

[19a-E305-1] シリコンナノピラー熱酸化のTEMトラッキング評価

〇和光 拓人1、仮屋崎 弘昭2、黒田 周1、宮本 聡1、藤森 洋行2、遠藤 哲郎3,4、伊藤 公平1 (1.慶大理工、2.グローバルウェーハズ・ジャパン、3.東北大CIES、4.JST-ACCEL)

キーワード：Siナノピラー、縦型BC-MOSFET、酸化