2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[19a-E311-1~8] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2019年9月19日(木) 09:30 〜 11:45 E311 (E311)

奈良 安雄(兵庫県立大学)

10:15 〜 10:30

[19a-E311-4] HfO2を用いたチャージトラップメモリのアナログ動作に対するPDA効果

吉仲 泰萌1、大西 寿仁1、奈良 安雄1 (1.兵庫県立大工)

キーワード:アナログメモリ、チャージトラップメモリ、フラットバンド電圧

人間の脳を模し,低消費電力で高速処理を実現するコンピュータの実現にはアナログメモリの開発が不可欠である.そこで本研究ではHfO2をチャージトラップ層に用いたチャージトラップメモリに注目し,アナログ動作の実現を目指している.PDA効果について検討したところ,飽和シフト量とパルスあたりのVFB変化割合を用いてVFB変化量を良く再現できることが分かり,高温PDAの方が飽和シフト量が大きくなることが分かった.