[19p-E318-1~10] 7.1 X線技術

[19p-E318-5] 九州シンクロトロン光研究センター（SAGA Light Source）におけるEUV専用ビームライン（BL18）の再整備とPMMAレジストのテスト露光

〇米山 明男¹、河田 眞太郎^1,2 (1.九州シンクロトロン光研究センター、2.東京工業大学)

キーワード：EUV、PMMA

EUV用レジストの露光評価や、各種光学素子（ミラー）の反射率評価に資するEUV専用ビームライン(BL18)を県有施設として九州シンクロトロン光研究センターに再整備し、PMMAレジストを対象としたテスト露光を行った。PMMAレジスト（厚さ200 nm）をテスト露光した結果、露光時間は40秒で底部まで露光することができた。