2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[10a-Z10-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2020年9月10日(木) 08:45 〜 11:30 Z10

羽深 等(横国大)

10:45 〜 11:00

[10a-Z10-8] ミニマルコータを用いた厚膜レジストの塗布プロセスの検討

中道 修平1、田中 宏幸2、居村 史人2、野田 周一2、クンプアン ソマワン1,2、原 史朗1,2 (1.ミニマルファブ、2.産総研)

キーワード:ミニマルファブ, フォトレジスト, スピンコータ