[10a-Z24-1~12] 【CS.5】 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェアセッション

△ [10a-Z24-4] Hf界面層を用いた強誘電性ノンドープHfO₂の薄膜化とMFSFETへの応用

〇林 将生¹、片岡 正和¹、Kim Min Gee¹、大見 俊一郎¹ (1.東工大)

キーワード：強誘電体, HfO2, MFSFET