[8a-Z05-1~11] 6.2 Carbon-based thin films

[8a-Z05-8] Fabrication and structural analysis of high-nitrogen containing a-CN_x:H thin films using radio-frequency plasma CVD of the C₆ organic compound-N₂ gas mixture

〇Yoshinori Karo¹, Haruhiko Ito¹, Hidetoshi Saitoh¹ (1.Nagaoka Univ. of Tech.)

Keywords:Plasma CVD, Amorphous carbon nitride

C₆系有機化合物と窒素ガスの混合気体で高周波プラズマCVDを用いて、アモルファスな窒化炭素薄膜を作製する。
作製した薄膜は、XPSやFT-IRを用いた化学結合状態の解析やインデンテーション試験による硬さ評価を行い薄膜を分析する。