2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[11a-N401-1~5] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2021年9月11日(土) 09:00 〜 10:15 N401 (口頭)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)

10:00 〜 10:15

[11a-N401-5] 低温熱ナノインプリントを用いた微細貫通孔付き自立樹脂薄膜の作製

田邉 英毅1、川田 博昭1、安田 雅昭1、平井 義彦1 (1.大府大工)

キーワード:ナノインプリント、自立樹脂薄膜

水溶性のポリビニールアルコール(PVA)薄膜の犠牲層と熱ナノインプリントを用いて微細貫通孔付き自立アクリル(PMMA)薄膜の作製プロセスを開発した。通常の熱ナノインプリントではPVAの軟化によりPMMAが延伸し貫通孔が得られない。そこで、120℃以下の低温で熱ナノインプリントを行ないPMMAの延伸を抑制した。インプリント温度が110℃の場合PMMAの延伸は抑えられ、一部貫通孔は得られた。今後さらにプロセスの改善を行う。