2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[13p-S301-1~15] 6.2 カーボン系薄膜

2021年9月13日(月) 13:00 〜 17:15 S301 (口頭)

神田 一浩(兵庫県立大)、針谷 達(豊橋技科大)

16:30 〜 16:45

[13p-S301-13] GCIB援用蒸着法により製膜されたDLCの製膜条件によるマルテンス硬度

大和田 佑1、西山 昭雄2、吉川 亮太2、田口 純志2、小松 啓志1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技大工、2.野村鍍金)

キーワード:GCIB援用蒸着法、DLC膜、マルテンス硬さ

GCIB援用蒸着法は製膜対象に原子・分子クラスターを衝突させて高密度エネルギーの付与などの照射効果をもたらす製膜方法である.クラスターは数十keVのエネルギーを有しており、製膜対象が低温であっても瞬間的に高温加熱時の環境となり高品位膜形成が可能となる.本研究グループはGCIB援用蒸着法によりクラスター源にArと蒸着源に炭素を用いて製膜されたDLCの機械特性に注目した.本研究はマルテンス硬度を中心に各種測定を実施した.