09:00 〜 09:15
土田 透子1、高橋 俊範1、〇羽深 等1、後藤 昭広2 (1.横国大院理工、2.プレテック)
羽深 等
発表者・著者、共著者
2022年9月21日(水) 09:00 〜 12:30 C206 (C206)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 13 半導体
- | 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション
2022年9月20日(火) 13:00 〜 16:30 A406 (A406)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 13 半導体
- | 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術
14:15 〜 14:30
加持 裕生1、〇羽深 等1、池田 伸一2,3、石田 夕起2,3、原 史朗2,3 (1.横国大院理工、2.ミニマルファブ推進機構、3.産総研)
2022年9月20日(火) 13:30 〜 15:45 C306 (C306)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 15 結晶工学
- | 15.6 IV族系化合物（SiC）
15:30 〜 15:45
滝澤 唯夏1、〇羽深 等1、石黒 暁夫2、石井 成明2、渡部 亨2、森山 義和2、醍醐 佳明2、水島 一郎2、高橋 至直3 (1.横国大院理工、2.ニューフレアテクノロジー、3.関東電化工業)