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[21p-B104-2] ナノインプリント技術による省電力半導体製造
キーワード:半導体、ナノインプリント、カーボンニュートラル
近年、半導体製造時の消費電力の増加が注目されているが、その主要因は微細化に伴うリソ工程での消費電力の増大である。ArF液浸では側壁法で用いるALDなどの工程の電力、EUV露光では光源の電力が消費電力を増加させている。これに対して、テンプレートを押し付けてパターン転写するナノインプリントリソグラフィは低コストで低消費電力のリソが実現できることから、半導体製造のカーボンニュートラルへの貢献が期待されている。