[23p-B202-1~13] 17.2 グラフェン

[23p-B202-3] プラズマCVDによる多層グラフェンの合成

〇川木 俊輔¹、川田 和則¹、中村 孝子¹、古賀 義紀¹、長谷川 雅考¹ (1.（株）エアメンブレン)

キーワード：グラフェン、グラファイト薄膜、多層膜

現在熱マネージメント用途などで使われているグラファイト薄膜の市販品は最も薄いものでも10μm程度であり、
更に薄い1μm以下の膜の商品化が期待されている。本研究ではプラズマCVD法を用いてニッケルを基板として
より薄いグラファイト薄膜（多層グラフェン膜）を合成した。この膜は良好な結晶性を有し、膜厚は数十nmから200nm以上
まで制御可能であり自立膜として取り扱い可能である。