The 69th JSAP Spring Meeting 2022

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.1 Ferroelectric thin films

[25p-E305-1~18] 6.1 Ferroelectric thin films

Fri. Mar 25, 2022 1:30 PM - 6:30 PM E305 (E305)

Isaku Kanno(Kobe Univ.), Takeshi Kobayashi(AIST), Shinya Yoshida(Tohoku Univ.)

2:15 PM - 2:30 PM

[25p-E305-4] Enhancement of crystal anisotropy and ferroelectric property by decreasing thickness in (Al,Sc)N films

〇(D)Shinnosuke Yasuoka1, Ryoichi Mizutani1, Reika Ota1, Takahisa Shiraishi1, Takao Shimizu1,2,3, Shintaro Yasui1, Yoshitaka Ehara4, Ken Nishida4, Masato Uehara5, Hiroshi Yamada5, Morito Akiyama5, Yasuhiko Imai6, Osami Sakata6, Hiroshi Funakubo1 (1.Tokyo Tech., 2.NIMS, 3.JST PREST, 4.NDA, 5.AIST, 6.JASRI)

Keywords:ferroelectric, (Al,Sc)N, thin film

ペロブスカイト型構造の強誘電体材料はサイズ効果によって、膜厚の減少に伴う残留分極値Prの減少が知られている。強誘電体(Al,Sc)Nにおける膜厚依存性の研究はこれまでにいくつか報告されているが、薄膜化に伴う結晶構造解析の困難さから強誘電特性と結晶構造の関係については詳細に議論されていない。本研究では放射光を用いた高輝度かつ高強度のX線回折により、膜厚12~130 nmの(Al,Sc)N膜の結晶構造と強誘電特性の関係を調査したので報告する。