14:45 〜 15:00 [16p-D215-6] ArF液浸露光装置を用いて大面積な超伝導量子回路を作製するための技術検討 〇大舘 暁1、齋藤 直洋1、鈴木 広介1、青山 肇1、塚本 宏之1、楠山 幸一2、中村 泰信2,3 (1.ニコン、2.理研、3.東大)