一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.1 光学基礎・光学新領域（旧3.2「材料・機器光学」と統合）
09:30 〜 09:45
〇伊知地 直樹1、大上 能悟2、久保 敦1 (1.筑波大物理、2.リスボン大)
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09:45 〜 10:00
〇菅野 仁人1、有田 佳彦2,3、キシャーン ドラキア3,4、宮本 克彦1,2、尾松 孝茂1,2 (1.千葉大融合理工、2.千葉大学分子キラリティー研、3.セントアンドリュース大学、4.アデレード大学)
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10:00 〜 10:15
〇鈴木 大翼1、富田 新1、Adam Vallés1,2,3、宮本 克彦1,2、尾松 孝茂1,2 (1.千葉大学融合理工学府、2.千葉大分子キラリティー研究センター、3.ICFO-Institut de Ciencies Fotoniques)
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10:15 〜 10:30
〇阪谷 圭亮1、徳島 友樹1、初田 蘭子2、野田 進2、北村 恭子1,2 (1.京都工繊大、2.京大院工)
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10:30 〜 10:45
〇(B)甲斐 清香1、川口 晴生1、高橋 幹太1、魏 榕1、山根 啓作2、柚山 健一3、川野 聡恭4、森田 隆二2、青木 伸之1,5、宮本 克彦1,5、尾松 孝茂1,5 (1.千葉大融合理工、2.北大工、3.大阪公立大、4.阪大基礎工、5.千葉大分子キラリティー)
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10:45 〜 11:00
〇(M2)宇都 隆宏1、呉 安安1、志村 努1、田中 嘉人1 (1.東大生研)
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11:00 〜 11:15
〇内田 涼太1、小林 弘和1 (1.高知工科大)
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11:15 〜 11:30
〇田村 理人1、Praveen Kumar3、A. Srinivasa Rao1,2、宮本 克彦1,2、尾松 孝茂1,2 (1.千葉大院融合、2.千葉大分子キラリティー研、3.ヒューストン大学)
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