2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[16a-A408-1~10] 6.2 カーボン系薄膜

2023年3月16日(木) 09:00 〜 11:30 A408 (6号館)

大曲 新矢(産総研)、稲葉 優文(九大)

11:00 〜 11:15

[16a-A408-9] C-Si-OチャネルノーマリーオフダイヤモンドMOSFETの高周波動作特性

〇(B)賈 学テイ1、高橋 輝1、Fu Yu1,3、浅井 風雅1、太田 康介1、平岩 篤1、川原田 洋1,2 (1.早大理工、2.早大材研、3.電子科技大学)

キーワード:ダイヤモンド、MOSFETs、ノーマリーオフ動作

本研究では、初の高周波測定可能なC-Si-Oチャネル高周波ダイヤモンドMOSFETを作製し、そのノーマリーオフ動作および高周波特性を報告する。作成したデバイスはVDS = -10 Vでノーマリーオフ動作を示し、ノーマリーオフ動作が必要である相補型パワー高周波回路への応用が期待される。