2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

印刷

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[16p-B508-1~17] 13.3 絶縁膜技術

2023年3月16日(木) 13:00 〜 17:45 B508 (2号館)

田岡 紀之(名大)、山本 芳樹(ルネサスエレクトロニクス)

17:30 〜 17:45

[16p-B508-17] p型Ge基板上に低温堆積したAl2O3薄膜の電気特性

横平 達哉1、山田 大地1、大川 敦輝2、佐藤 哲也2、〇王谷 洋平1 (1.諏訪東理大、2.山梨大)

キーワード：Ge、高誘電率材料、Ge-MIS